Silver metallization : stability and reliability

Silver metallization : stability and reliability

Daniel Adams, Terry L Alford, James W Mayer
ఈ పుస్తకం ఎంతగా నచ్చింది?
దింపుకొన్న ఫైల్ నాణ్యత ఏమిటి?
పుస్తక నాణ్యత అంచనా వేయడాలనుకుంటే దీన్ని దింపుకోండి
దింపుకొన్న ఫైళ్ళ నాణ్యత ఏమిటి?
Here is the first book to discuss the current understanding of silver metallization and its potential as a future interconnect material for integrated circuit technology. With the lowest resistivity of all metals, silver is an attractive interconnect material for higher current densities and faster switching speeds in integrated circuits. Over the past ten years, extensive research has been conducted to address the issues that have prevented silver from being used as an interconnect metal. The authors provide details on a wide range of experimental, characterization, and analysis techniques. The book is written for students, scientists, engineers, and technologists in the fields of integrated circuits and microelectronics research and development.
వర్గాలు:
సంవత్సరం:
2008
ప్రచురణకర్త:
Springer
భాష:
english
పేజీల సంఖ్య:
131
ISBN 10:
1848000278
ISBN 13:
9781848000278
పుస్తక శ్రేణి:
Engineering materials and processes
ఫైల్:
PDF, 4.14 MB
IPFS:
CID , CID Blake2b
english, 2008
ఆన్‌లైన్‌లో చదవండి
కి మార్పిడి జరుగుతూ ఉంది.
కి మార్పిడి విఫలమైంది!

కీలక పదబంధాలు